皮革行业2020年的机遇与挑战

　　2010年11月12日-14日，第8届亚洲国际皮革科学与技术会议（以下简称AICLST）在印度加尔各答市召开，会议主题为皮革行业2020年的机遇与挑战，来自11个国家和地区的200余位代表参加了会议，中国皮革协会组织9个单位22位代表组成的中国大陆代表团参会。本届会议成果丰硕。
　　
　　一、皮革化工材料基础研究
　　
　　本次大会交流的皮革化工材料基础研究的内容涉及纳米涂饰材料、聚合物类加脂剂以及新型抗菌防霉剂等。
　　
　　

来自印度中央皮革研究所的SivarajSudhahar等人尝试将纳米材料用于皮革涂饰操作以使皮革具有更好的表观性能和某些特殊性能。皮革涂饰配方包含水、交联剂、颜料、分散剂和纳米材料，作者考察了上述各成分配方不同比例时纳米材料的分散状态，并对配方比例进行了优化。使用银或钛等纳米材料处理过的皮革表现出优异的抗菌性能，纳米二氧化硅可改善皮革涂层的防水性能、透水气性能和粘弹性能。
　　
　　BalmerLawrie&Co有限公司的V.Vijayabaskar等人制备了一种聚合物类加脂剂，并尝试着将这类材料用于皮革加脂处理。这种具有复鞣特性的加脂剂含有一种两性共聚物。该共聚物不含溶剂，是通过一种疏水性单体和一种可聚合的亲水性单体共聚而得。优化的疏水性单体为带有乙烯基端基的十二烷基酯，亲水性共聚单体为丙烯酸。利用丙酮将未聚合的疏水性单体分离后，该复鞣型加脂剂中疏水性单体含量高达90%。经过稀释后，加脂剂产品中固体物质含量约为30%。经过这种复鞣型加脂剂处理的皮革具有高强度、高柔软度、优异的耐光牢度，并能够降低常规加脂工艺配方的雾化值。此外，基于皮重量3%的这种复鞣型加脂剂有助于提高铬吸收率。
　　
　　来自TFL公司的EricKientz等人通过静态方法和动态方法分析了皮革涂层的抗污能力。分析结果显示：1.将硅土用作消光剂，这能提高皮革涂层的动态抗污能力；2.增加交联剂用量，这会降低皮革涂层的静态和动态抗污力；3.硅树脂类助剂会使皮革涂层静态和动态抗污力有所下降；4.虽然含氟类助剂有助于提高涂层的疏水性和亲油性，并使涂层表面接触角增加，但这类物质对动态抗污力的影响不明显。该论文还介绍了一种新型的聚氨酯树脂类消光剂，它可以在皮革表面形成连续的膜，有助于明显提高涂层的抗污性能，并降低涂层摩擦时的响声。
　　
　　美国StephenD.Bryant等人制备了一种环保、抗菌高效的新型防霉剂。这种防霉剂是由氨腈与二硫化碳反应制备的，化学名称为S－己基－S’－氯基－氰基二硫代异氰酸盐（CHED），对环境无毒，且其分解物毒性也很低。当CHED接上端基后，其对黑曲霉的最小抑菌浓度（MIC）存在明显差异，当端基为—（CH2）5CH3时，MIC最低为0.2ppm；当端基为—（CH2）2CO2H时，MIC高于100ppm，其抑菌效果最差。当将CHED与其他防霉剂（如，2-(硫氰酸甲基巯基)苯并噻唑、二碘代甲基对甲苯砜，等）混合使用时，对黑曲霉的抑菌效果好，可使MIC低于1ppm。
　　
　　二、胶原稳定新动向
　　
　　本次大会交流的胶原稳定新动向的内容涉及利用单宁或改性醛类物质稳定胶原。
　　
　　印度中央皮革研究所的DipankarChaudhuri等人详细考察了包括柯子在内的不同种类的单宁对皮革中三价铬的稳定性影响规律。这些单宁包括坚木单宁，黑荆木单宁，柯子单宁和单宁酸等。实验考察了这些单宁复鞣的铬皮粉的稳定性，不同pH值条件下固定用量的柯子单宁复鞣的铬皮粉的稳定性，并研究了溶液中单宁和铬的氧化还原反应：包含柯子在内的这些单宁均能够稳定皮粉中的三价铬，且柯子单宁的稳定作用最强。当柯子单宁的含量为0.5%时，皮粉中三价铬仍具有一定稳定性。增加溶液的酸度可以提高单宁对六价铬的还原作用，增加单宁的浓度却会明显降低六价铬的还原性。利用这些复鞣铬皮粉均得到了非常相似的结果。柯子单宁稳定铬鞣革中三价铬的作用最强，并且可通过氧化还原反应降低复鞣革中六价铬含量。
　　
　　来自印度中央皮革研究所的GladstoneChristopher等人尝试将一种新的醛类衍生物用于稳定I-型胶原。这种醛类衍生物是利用高碘酸盐氧化裂皱菌多糖而得的二醛类衍生物，命名为Scleraldehyde。当高碘酸盐含量为99%时，可得到二醛含量为29%的Scleraldehyde。随着这种醛类衍生物用量的增加，醛与胶原的交联效率增加。当醛用量从0.2%增加为1.0%时，胶原收缩温度由66℃增加到89℃。这说明这种二醛类衍生物能够明显提高胶原的变性温度，可以用作新型无铬鞣剂。
　　
　　文章来源：中国皮革网